今天要给大家介绍的是影响抛光氧化铝抛光性能的一些因素，探索了抛光工艺参数对去除量的影响,即抛光压力、抛光时间和下盘转速与材料去除量的关系进行了研究。

　　1、外加压力对去除量的影响

　　抛光压力是抛光工艺中的一个重要的参数。压力增大时,工件所受到的切向力增大,抛光颗粒对玻璃基片碰撞加强,即机械研磨作用增强,材料去除量随之增大。当压力过高时抛光垫贮存抛光液的能力下降,浆料传输速率降低,反而使去除量降低。

　　2、抛光时间对去除量的影响

　　材料去除量随着时间的延长而增大;在抛光前期(60min内),去除量很大,后段时间材料去除量变化趋于平缓。这是因为在抛光前期,基片表面粗糙峰较多,抛光去除的多是基片表面的粗糙峰,从而去除量大；随着抛光时间的延长,基片表面去除量增大,其表面粗糙度减小,相应粗糙峰也减少,去除越来越慢,从而引起去除量增加也比较缓慢。

　　3、下盘转速对去除量的影响

　　下盘转速对材料去除量的影响与压力对材料去除量的影响变化趋势相近,随着下盘转速的提高,材料去除量先增大后减小。